半導體污水怎么處理?
在電子產品應用領域不斷擴大的今天,半導體對我國的發(fā)展意義重大。半導體所涉及的行業(yè)很廣,根據(jù)原料和工藝的不同,所產生的廢水性質也不同,但都具有排水量大、污染能力強的特點。按半導體污水處理企業(yè)的特點,將半導體廢水分為三大類,分別來自于生產過程中產生的含氟廢水、有機廢水和金屬離子廢水。
含氟廢水:廢水主要來自半導體生產工序的腐蝕段,由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑,污染物濃度較高,如氟、氨等,廢水一般呈強酸性;
處理辦法:將廢水的p H值調整在6-7左右,再加入的過量的Ca Cl2和適量的絮凝劑,后續(xù)會行形成沉淀,部分污泥循環(huán)成為載體,在沉淀池中通過重力沉降能夠實現(xiàn)泥水分離。第一次反應時能夠去除80%的氟,再一次加入絮凝劑,氟化鈣及其其他形態(tài)沉淀,利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運,這時候產生的壓濾液進入其他的系統(tǒng)進一步處理。
有機廢水,其污染物主要是一些常規(guī)污染物,生產濃度與生產工藝和運行管理水平密切相關。半導體生產廢水中的金屬離子種類很多,主要有銅、鎳、錫、鉛、銀等。金屬離子污水則是根據(jù)不同的金屬離子采用不同的方法,常見的方法有活性炭吸附法、化學沉降法、去離子交換法等。
半導體污水除了除了以上方法以外,還可以對污水進行電滲析、離子交換樹脂、吸附、冷凍等,在進行污水處理期間還可以去除一些雜質以及特殊的氣味。
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